Estas tri etapoj en la procezo de fizika vapordemetado (PVD): Eligo de partikloj el krudaĵoj; La partikloj estas transportitaj al la substrato; La partikloj kondensiĝas, nukleiĝas, kreskas kaj filmiĝas sur la substrato.

Kemia vapordemetado (CVD), kiel la nomo implicas, uzas gasajn antaŭreakciaĵojn por formi solidajn filmojn per atomaj kaj molekulaj kemiaj reakcioj. Menciindas, ke kemia vapordemetado (CVD) estas vaste uzata en altkvalita duonkondukta kristala epitaksio kaj la preparado de diversaj izolaj filmoj. Ekzemple, en MOS FET, la filmoj deponitaj per CVD inkludas polikristalan Si, SiO2, pekon, ktp.