Lurrun-deposizio fisikoaren (PVD) prozesuan hiru fase daude: Lehengaietatik partikulen igorpena; Partikulak substratura garraiatzen dira;Partikulak kondentsatu, nukleatu, hazi eta filmatu egiten dira substratuan.
Lurrun-deposizio kimikoak (CVD), izenak dioen bezala, erreaktibo aitzindari gaseosoak erabiltzen ditu film solidoak osatzeko, erreakzio kimiko atomiko eta molekularren bidez. Aipatzekoa da lurrun-deposizio kimikoa (CVD) oso erabilia dela kalitate handiko kristal erdieroaleen epitaxian eta film isolatzaile ezberdinen prestaketan. Esaterako, MOS FET-en, CVD-k metatutako filmak Si polikristalinoa, SiO2, sin, etab.
