Gen twa etap nan pwosesis depozisyon fizik vapè (PVD): Emisyon patikil ki soti nan matyè premyè; Patikil yo transpòte nan substra a; Patikil yo kondanse, nuklee, grandi ak fim sou substra a.

Depozisyon chimik vapè (CVD), jan non an implique, sèvi ak reyaktif précurseurs gaz pou fòme fim solid atravè reyaksyon chimik atomik ak molekilè. Li se vo mansyone ke depo chimik vapè (CVD) se lajman ki itilize nan-wo kalite semi-conducteurs kristal epitaksi ak preparasyon an nan divès kalite fim posibilite. Pou egzanp, nan MOS FET, fim yo depoze pa CVD gen ladan polikristalin Si, SiO2, peche, elatriye.