Ci sono tre fasi nel processo di deposizione fisica da vapore (PVD): Emissione di particelle dalle materie prime; Le particelle vengono trasportate sul substrato; le particelle condensano, nucleano, crescono e si filmano sul substrato.

La deposizione chimica da vapore (CVD), come suggerisce il nome, utilizza reagenti precursori gassosi per formare film solidi attraverso reazioni chimiche atomiche e molecolari. Vale la pena ricordare che la deposizione chimica da vapore (CVD) è ampiamente utilizzata nell'epitassia di cristalli semiconduttori di alta qualità e nella preparazione di vari film isolanti. Ad esempio, in MOS FET, i film depositati da CVD includono Si policristallino, SiO2, sin, ecc.