Физик уурын хуримтлуулах процесс (PVD) гурван үе шаттай: Түүхий эдээс бөөмс ялгарах; Бөөмүүдийг субстрат руу зөөвөрлөнө;Бөөмс нь конденсацлаж, бөөмжиж, ургаж, субстрат дээр хальслана.
Химийн уурын хуримтлал (CVD) нь нэрнээс нь харахад атом ба молекулын химийн урвалаар хатуу хальс үүсгэхийн тулд хийн урьдал бодисыг ашигладаг. Химийн уурын хуримтлал (CVD) нь өндөр чанартай хагас дамжуулагч талст эпитакс болон янз бүрийн тусгаарлагч хальс бэлтгэхэд өргөн хэрэглэгддэг гэдгийг дурдах нь зүйтэй. Жишээлбэл, MOS FET-д CVD-ээр хадгалсан хальсанд поликристал Si, SiO2, sin гэх мэт орно.
