جسماني بخار جي جمع (PVD) جي عمل ۾ ٽي مرحلا آهن: خام مال مان ذرات جو اخراج؛ ذرات کي سبسٽريٽ ڏانهن منتقل ڪيو ويندو آهي؛ ذرات ڪنڊينس، نيوڪليٽ، وڌندا آهن ۽ سبسٽريٽ تي فلم ڪندا آهن.
ڪيميائي وانپ جمع (CVD)، جيئن نالي جو مطلب آهي، گيسس اڳوڻو ريڪٽر استعمال ڪري ٿو ته ايٽمي ۽ ماليڪيولر ڪيميائي رد عمل ذريعي مضبوط فلمون ٺاهڻ لاء. اها ڳالهه قابل ذڪر آهي ته ڪيميائي وانپ جمع (CVD) وڏي پيماني تي استعمال ڪيو ويندو آهي اعلي معيار جي سيمي ڪنڊڪٽر ڪرسٽل ايپيٽڪسي ۽ مختلف موصلي فلمن جي تياري ۾. مثال طور، MOS FET ۾، CVD پاران جمع ڪيل فلمون شامل آهن پولي ڪرسٽل لائن سي، سي او 2، گناهه وغيره.
